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作　者 :	马群星
日期 :	2020-11-09
摘　要 :	公司介质刻蚀设备国内最先进，并达到国际一线水准，产品已进入世界领先晶圆制造企业5nm产线。硅刻蚀、金属刻蚀已进入客户端验证阶段。MOCVD设备已达到国际水平，且价格优势明显。未来有望成为国际领先的半导体设备开发商。
关键词 :	中微公司；国产芯片；投资机遇；